Przeskocz do nawigacji głównej Przeskocz do wyszukiwania Przeskocz do głównej treści

Some comments on the electronic properties of the space charge layer of the clean and oxygen exposed SnO2(110) surface

  • D. Lipa
  • , J. Szuber
  • Silesian University of Technology

Wyniki badań: Wkład do czasopisma › Artykuł z konferencji › recenzja

Abstrakt

Electronic properties of the space charge layer of the clean and oxygen exposed SnO2(110) surface have been analysed on the basis of the previously published results concerning the changes of the Fermi level position depending on the annealing temperature and oxygen exposure. Using the model of the differently ionised oxygen vacancies the correlations between recently reported values of the absolute band bending and electrical conductance were observed what was connected with the changes of the effective density of the filled electronic states localised in the band gap below the Fermi level EF and in the upper part of the valence band.

Język oryginałuangielski
Strony (od–do)202-204
Liczba stron3
CzasopismoElectron Technology (Warsaw)
Tom30
Numer wydania2
Status publikacjiOpublikowano - 1997
WydarzenieProceedings of the 1996 4th Seminar on Surface and Thin Film Structures - Kazimierz Dolny, Pol
Czas trwania: 18 wrz 1996 → 21 wrz 1996

Obszary tematyczne ASJC Scopus

  • Inżynieria ogólna

Fingerprint

Zanurz się w tematy badawcze publikacji „Some comments on the electronic properties of the space charge layer of the clean and oxygen exposed SnO2(110) surface”. Razem tworzą niepowtarzalny odcisk palca.

Cytowanie