Przeskocz do nawigacji głównej Przeskocz do wyszukiwania Przeskocz do głównej treści

Silica layers as masks in Ag+-Na+ ion exchange processes

Wyniki badań: Wkład do czasopismaArtykułrecenzja

1 Cytowanie z bazy Scopus

Abstrakt

The paper present the application of sol-gel derived silica layers as masks in selective ion exchange processes. These layers were deposited on soda-lime glass substrates, subjected then to the ion exchange processes using liquid source of admixture in the form of a AgNO3:NaNO3 solution with a molar fraction of silver κAg = 0.0025. The concentration of silver in the masked and non-masked areas of the glass were examined with the use of Scanning Electron Microscope/Energy-Dispersive X-ray Spectroscopy (SEM/EDS). The resulting silver concentration profiles allowed to estimate the masking properties of silica layers. Using sol-gel silica films as masks for selective ion-exchange processes, the multimode strip waveguides were produced.

Język oryginałuangielski
Strony (od–do)122-127
Liczba stron6
CzasopismoThin Solid Films
Tom615
Identyfikatory DOI
Status publikacjiOpublikowano - 30 wrz 2016

Obszary tematyczne ASJC Scopus

  • Materiały elektroniczne, optyczne i magnetyczne
  • Powierzchnie i interfejsy
  • Powierzchnie, powłoki i filmy
  • Metale i stopy
  • Chemia materiałowa

Fingerprint

Zanurz się w tematy badawcze publikacji „Silica layers as masks in Ag+-Na+ ion exchange processes”. Razem tworzą niepowtarzalny odcisk palca.

Cytowanie