Selective metallization of silicon solar cell

Piotr Kowalik; Edyta Wróbel

Selective metallization of silicon solar cell

Przetłumaczony tytuł wkładu: Selektywna metalizacja krzemowego ogniwa fotowoltaicznego

Katedra Elektroniki, Elektrotechniki i Mikroelektroniki (RAU/RAU11)

Wyniki badań: Wkład do czasopisma › Artykuł › recenzja

2 Cytowania z bazy Scopus

Abstrakt

This paper presents a novel method for selectively plating on the surface of silicon solar cell structure. The presented technology allows production of metallization of any given shape on the surface of cells. The technology is carried out at room temperature and can be easily applied to mass production.

Przetłumaczony tytuł wkładu	Selektywna metalizacja krzemowego ogniwa fotowoltaicznego
Język oryginału	angielski
Strony (od–do)	103-104
Liczba stron	2
Czasopismo	Przeglad Elektrotechniczny
Tom	89
Numer wydania	10
Status publikacji	Opublikowano - 2013

Cele SDG ONZ

Ten wynik przyczynia się do realizacji następujących celów zrównoważonego rozwoju

Cel 7 Przystępna i czysta energia

Obszary tematyczne ASJC Scopus

Inżynieria elektryczna i elektroniczna

Inne pliki i linki

Link do publikacji w Scopus

Cytowanie

@article{cd46a8dd7d7b45b598fb9f76c088a18c,

title = "Selective metallization of silicon solar cell",

abstract = "This paper presents a novel method for selectively plating on the surface of silicon solar cell structure. The presented technology allows production of metallization of any given shape on the surface of cells. The technology is carried out at room temperature and can be easily applied to mass production.",

keywords = "Selective chemical metallization, Silicon solar cell",

author = "Piotr Kowalik and Edyta Wr{\'o}bel",

year = "2013",

language = "English",

volume = "89",

pages = "103--104",

journal = "Przeglad Elektrotechniczny",

issn = "0033-2097",

publisher = "Wydawnictwo SIGMA-NOT",

number = "10",

}

TY - JOUR

T1 - Selective metallization of silicon solar cell

AU - Kowalik, Piotr

AU - Wróbel, Edyta

PY - 2013

Y1 - 2013

N2 - This paper presents a novel method for selectively plating on the surface of silicon solar cell structure. The presented technology allows production of metallization of any given shape on the surface of cells. The technology is carried out at room temperature and can be easily applied to mass production.

AB - This paper presents a novel method for selectively plating on the surface of silicon solar cell structure. The presented technology allows production of metallization of any given shape on the surface of cells. The technology is carried out at room temperature and can be easily applied to mass production.

KW - Selective chemical metallization

KW - Silicon solar cell

UR - https://www.scopus.com/pages/publications/84884925411

M3 - Article

AN - SCOPUS:84884925411

SN - 0033-2097

VL - 89

SP - 103

EP - 104

JO - Przeglad Elektrotechniczny

JF - Przeglad Elektrotechniczny

IS - 10

ER -

Selective metallization of silicon solar cell

Abstrakt

Cele SDG ONZ

Obszary tematyczne ASJC Scopus

Inne pliki i linki

Fingerprint

Cytowanie