Przeskocz do nawigacji głównej Przeskocz do wyszukiwania Przeskocz do głównej treści

Rigorous analysis of the electronic properties of InP interfaces for gas sensing

  • Silesian University of Technology
  • Université Clermont Auvergne
  • Hokkaido University

Wyniki badań: Wkład do czasopisma › Artykuł z konferencji › recenzja

8 Cytowania z bazy Scopus

Abstrakt

A theoretical analysis of the surface Fermi level position (EFS) at n-InP interfaces with different surface state density (NSS(E)) and surface fixed charge (QFC) representing adsorbed ions or surface δ-doping has been performed in order to understand the InP-based gas sensor behaviour. Furthermore, the in-depth profiles of the potential barrier in equilibrium and under illumination (surface photovoltage) have been rigorously calculated. A U-shaped interface state continuum has been assumed in accordance with the Disorder Induced Gap State model. From the simulated dependencies of EFS vs. the minimum surface state density NSS0, the movement of EFS in the energy band gap as well as its pinning position have been investigated. In addition, the analysis of the EFS sensitivity to the negative and positive QFC has revealed the remarkable charge detection sensitivity of InP interfaces within different dynamic ranges.

Język oryginałuangielski
Strony (od–do)101-106
Liczba stron6
CzasopismoThin Solid Films
Tom436
Numer wydania1
Identyfikatory DOI
Status publikacjiOpublikowano - 22 lip 2003
WydarzeniePapers From The 3rd Seminar on SGS 2002 - Ustron, Polska
Czas trwania: 19 wrz 2002 → 22 wrz 2002

Obszary tematyczne ASJC Scopus

  • Materiały elektroniczne, optyczne i magnetyczne
  • Powierzchnie i interfejsy
  • Powierzchnie, powłoki i filmy
  • Metale i stopy
  • Chemia materiałowa

Fingerprint

Zanurz się w tematy badawcze publikacji „Rigorous analysis of the electronic properties of InP interfaces for gas sensing”. Razem tworzą niepowtarzalny odcisk palca.

Cytowanie