Przeskocz do nawigacji głównej Przeskocz do wyszukiwania Przeskocz do głównej treści

Optical and photoelectrical investigations of Ge20Se69Bi11 thin films

  • Silesian University of Technology

Wyniki badań: Wkład do czasopisma › Artykuł z konferencji › recenzja

Abstrakt

Thin films of amorphous Ge20Se69Bi11 were investigated using optical reflectance and transmittance as well as photoconductivity. The determined spectral dependencies of real part of refractive index and absorption coefficient of radiation are presented. The optical energy gap and the Urbach energy have been obtained from the absorption data. The high-frequency dependence of photoconductivity on chopping frequency of illumination intensity allowed to determine the majority carrier lifetime. Using its value as well as the measured optical parameters and the experimental sublinear dependence of photoconductivity on illumination intensity the carrier mobility was evaluated.

Język oryginałuangielski
Strony (od–do)417-419
Liczba stron3
CzasopismoElectron Technology (Warsaw)
Tom31
Numer wydania3-4
Status publikacjiOpublikowano - 1998
WydarzenieProceedings of the 1997 5th Seminar on Surface and Thin Film Structures - Ustron, Pol
Czas trwania: 23 wrz 1997 → 26 wrz 1997

Obszary tematyczne ASJC Scopus

  • Inżynieria ogólna

Fingerprint

Zanurz się w tematy badawcze publikacji „Optical and photoelectrical investigations of Ge20Se69Bi11 thin films”. Razem tworzą niepowtarzalny odcisk palca.

Cytowanie