Abstrakt
This study reports the results of an investigation of a niobium-doped titania dioxide thin film fabricated via a sol-gel method and dip-coating. Niobium-doped and undoped titania films were deposited on silicon wafers and soda-lime glass slides. The niobium-doped and undoped titanium dioxide films exhibit a high refractive index of ≈ 2.1 and thicknesses exceeding 110nm. The study addresses the technological procedures, characterisation methods, and the influence of niobium doping on the optical properties of TiO₂ films.
| Język oryginału | angielski |
|---|---|
| Numer artykułu | e158649 |
| Czasopismo | Opto-Electronics Review |
| Tom | 34 |
| Numer wydania | 2 |
| Identyfikatory DOI | |
| Status publikacji | Opublikowano - 2026 |
Obszary tematyczne ASJC Scopus
- Promieniowanie
- Materiałoznawstwo ogólne
- Inżynieria elektryczna i elektroniczna
Fingerprint
Zanurz się w tematy badawcze publikacji „Nb₂O₅-doped TiO₂ film synthesised via sol-gel method – technology and optical characterisation”. Razem tworzą niepowtarzalny odcisk palca.Cytuj to
- APA
- Author
- BIBTEX
- Harvard
- Standard
- RIS
- Vancouver