Przeskocz do nawigacji głównej Przeskocz do wyszukiwania Przeskocz do głównej treści

Influence of illumination intensity on negative photoconductivity of Si ion-implanted GaAs:Cr

  • G. J. Papaioannou
  • , M. Nowak
  • , P. C. Euthymiou
  • National and Kapodistrian University of Athens

Wyniki badań: Wkład do czasopismaArtykułrecenzja

9 Cytowania z bazy Scopus

Abstrakt

Negative photoconductivity (PC) was observed in Si ion-implanted GaAs:Cr below the fundamental band gap. The dependence of this effect on wavelength and intensity of illumination is reported. For photon energies slightly smaller than the optical energy gap the negative PC reverts into positive PC with increasing illumination intensity. Complementary investigations of PC in Si ion-implanted, undoped GaAs also are presented. The physical reasons for the negative PC are discussed.

Język oryginałuangielski
Strony (od–do)4864-4868
Liczba stron5
CzasopismoJournal of Applied Physics
Tom65
Numer wydania12
Identyfikatory DOI
Status publikacjiOpublikowano - 1989

Obszary tematyczne ASJC Scopus

  • Ogólna fizyka i astronomia

Fingerprint

Zanurz się w tematy badawcze publikacji „Influence of illumination intensity on negative photoconductivity of Si ion-implanted GaAs:Cr”. Razem tworzą niepowtarzalny odcisk palca.

Cytowanie