Przeskocz do nawigacji głównej Przeskocz do wyszukiwania Przeskocz do głównej treści

High‐frequency photomagnetoelectric method for determining semiconductor parameters

  • S. Kończak
  • , K. Kotewicz
  • , M. Nowak
  • Silesian University of Technology

Wyniki badań: Wkład do czasopisma › Artykuł › recenzja

5 Cytowania z bazy Scopus

Abstrakt

The high‐frequency method of investigation of PME and PC effects is used for the measurements on silicon samples of different thickness. A method for testing the conformity of thick or thin samples, a theory to work out the experimental results is reported. An application of the acoustooptical modulation of a laser beam to the investigation of PME and PC effects is presented.

Język oryginałuangielski
Strony (od–do)447-451
Liczba stron5
CzasopismoPhysica Status Solidi (A) Applied Research
Tom65
Numer wydania2
Identyfikatory DOI
Status publikacjiOpublikowano - 16 cze 1981

Obszary tematyczne ASJC Scopus

  • Materiały elektroniczne, optyczne i magnetyczne
  • Fizyka materii skondensowanej

Fingerprint

Zanurz się w tematy badawcze publikacji „High‐frequency photomagnetoelectric method for determining semiconductor parameters”. Razem tworzą niepowtarzalny odcisk palca.

Cytowanie