Szczegóły
Opis
Opiekun laboratorium:
dr inż. Anna Taratuta
[email protected]
Laboratorium zostało wyposażone w dwa rodzaje urządzeń do nakładania cienkich warstw i powłok:
-Atomic Layer Deposition (ALD)
-Physical Vapour Deposition (PVD)
Atomic Layer Deposition (ALD)
Beneq TFS200 – System do osadzania pojedynczych warstw atomowych
-Urządzenie pozwala na wytworzenie cienkich warstw w temperaturze do 500°C
-Proces przebiega w atmosferze azotu 5.0
wymiary wewnętrzne komory: średnica 200mm, wysokość 90mm
-Dysponujemy szeroką gamą prekursorów, takich jak: cynk, cyna, glin, tytan, cyrkon, tantal
-Warstwa może składać się zarówno z jednego z prekursorów, z kilu, a także z ich tlenków.
-Możliwe jest sterowanie zarówno ilością, jak i czasem trwania poszczególnych cykli
Parametry Beneq TFS200:
-2 komory 200 mm x 95 mm
-1 komora 200 mm x 18 mm
-4 źródła ciekłe
-2 źródła podgrzewane
-2 linie gazowe
-System dostarczania O3
-Moduł do pokrywania nanocząstek
-Doskonała adhezja – chemisorpcja
-Sekwencyjność
-Powtarzalność
-Wysoka wydajność
-Niska temperatura procesu
-Kontrolowana grubość
Physical Vapour Deposition (PVD)
System PVD (ang. Physical Vapour Deposition) wyposażony w moduł sputteringu magnetronowego.
-Ciśnienie bazowe w komorze wynosi 5×10-7 mbar – standard UHV (ang. Ultra High Vacuum)
-Możliwość instalacji do 3 dział magnetronowych oraz dwóch rodzajów zasilania DC i RF wraz z modułem współdepozycji oraz liniami gazowymi do azotu i tlenu.
-Komora, pokazująca działające źródło rozpylania magnetronowego
Urządzenie firmy Moorfield, nanoPVD-S10A, to magnetronowy system rozpylania magnetronowego, do napylania metali lub materiałów izolacyjnych, takich jak tlenki i azotki. Urządzenia są wyposażone w turbomolekularne układy pompujące zapewniające pracę przy niskim poziomie zanieczyszczeń. Możliwe jest współosadzanie, a także napylanie reaktywne za pomocą modułu sterowania gazem/ciśnieniem, który może obsługiwać do 3 gazów procesowych. System współpracuje z klasycznymi przemysłowymi targetami (np. TiN, TiO2, C) oraz podłożami o wymiarach do 4”.
dr inż. Anna Taratuta
[email protected]
Laboratorium zostało wyposażone w dwa rodzaje urządzeń do nakładania cienkich warstw i powłok:
-Atomic Layer Deposition (ALD)
-Physical Vapour Deposition (PVD)
Atomic Layer Deposition (ALD)
Beneq TFS200 – System do osadzania pojedynczych warstw atomowych
-Urządzenie pozwala na wytworzenie cienkich warstw w temperaturze do 500°C
-Proces przebiega w atmosferze azotu 5.0
wymiary wewnętrzne komory: średnica 200mm, wysokość 90mm
-Dysponujemy szeroką gamą prekursorów, takich jak: cynk, cyna, glin, tytan, cyrkon, tantal
-Warstwa może składać się zarówno z jednego z prekursorów, z kilu, a także z ich tlenków.
-Możliwe jest sterowanie zarówno ilością, jak i czasem trwania poszczególnych cykli
Parametry Beneq TFS200:
-2 komory 200 mm x 95 mm
-1 komora 200 mm x 18 mm
-4 źródła ciekłe
-2 źródła podgrzewane
-2 linie gazowe
-System dostarczania O3
-Moduł do pokrywania nanocząstek
-Doskonała adhezja – chemisorpcja
-Sekwencyjność
-Powtarzalność
-Wysoka wydajność
-Niska temperatura procesu
-Kontrolowana grubość
Physical Vapour Deposition (PVD)
System PVD (ang. Physical Vapour Deposition) wyposażony w moduł sputteringu magnetronowego.
-Ciśnienie bazowe w komorze wynosi 5×10-7 mbar – standard UHV (ang. Ultra High Vacuum)
-Możliwość instalacji do 3 dział magnetronowych oraz dwóch rodzajów zasilania DC i RF wraz z modułem współdepozycji oraz liniami gazowymi do azotu i tlenu.
-Komora, pokazująca działające źródło rozpylania magnetronowego
Urządzenie firmy Moorfield, nanoPVD-S10A, to magnetronowy system rozpylania magnetronowego, do napylania metali lub materiałów izolacyjnych, takich jak tlenki i azotki. Urządzenia są wyposażone w turbomolekularne układy pompujące zapewniające pracę przy niskim poziomie zanieczyszczeń. Możliwe jest współosadzanie, a także napylanie reaktywne za pomocą modułu sterowania gazem/ciśnieniem, który może obsługiwać do 3 gazów procesowych. System współpracuje z klasycznymi przemysłowymi targetami (np. TiN, TiO2, C) oraz podłożami o wymiarach do 4”.
Fingerprint
Poznaj obszary badawcze, w których wykorzystano to wyposażenie. Te etykiety są generowane na podstawie powiązanych wyników. Razem tworzą niepowtarzalny odcisk palca - Fingerprint.