Szczegóły
Opis
Selektywne chemiczne wytwarzanie warstw rezystywnych i przewodzących na bazie NiP. Wytwarzanie warstw domieszkowych w krzemie z wykorzystaniem rozwirowywanych szkliw domieszkowych.
Grupa Mikroelektroniki
- Edyta Wróbel (Lider zespołu badawczego) &
- Piotr Kowalik (Lider zespołu badawczego)
Obiekt/wyposażenie: Zespół badawczy