Details
Description
Selektywne chemiczne wytwarzanie warstw rezystywnych i przewodzących na bazie NiP. Wytwarzanie warstw domieszkowych w krzemie z wykorzystaniem rozwirowywanych szkliw domieszkowych.
Grupa Mikroelektroniki
- Edyta Wróbel (Research pool leader) &
- Piotr Kowalik (Research pool leader)
Facility/equipment: Research pool